K&F Concept Nano-C HMC UV filtrs - 52 mm

K&F Concept Nano-C HMC UV filtrs ir neaizstājams rīks ikviena fotogrāfa aprīkojumā. Tas ne tikai efektīvi aizsargā objektīvu no putekļiem, netīrumiem un mehāniskiem bojājumiem, bet arī palīdz uzlabot fotoattēlu kvalitāti.

Galvenās iezīmes

• Saderīgs ar 52 mm vītni
• Aizsargā objektīvu no putekļiem, netīrumiem un pirkstu nospiedumiem
• Samazina UV gaismas ietekmi, uzlabojot fotoattēlu kvalitāti
• Izgatavots no augstas kvalitātes Japānas optiskā stikla
• 18 slāņu HMC (Hard Multi-Coated) pārklājums
• Īpaši plāns rāmis (3,3 mm biezs) novērš vinjetēšanu

Pateicoties HMC daudzslāņu pārklājumam un Japānas optiskajam stiklam, filtrs garantē atspīdumu samazināšanu, uzlabojot fotogrāfiju kontrastu un skaidrību. Komplektā ietilpst aizsargmaciņš drošai transportēšanai.